Specific Process Knowledge/Etch/DRIE-Pegasus/nanoetch/nano12: Difference between revisions

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-| ER||nm/min||241||285||307||325||335||299||37
+| Etch rates||nm/min||241||285||307||325||335||299||37
 |-
-| SA||degs||92||92||92||91||91||92||0
+| Sidewall angle ||degs||92||92||92||91||91||92||0
 |-
-| base||nm/edge||-5||-8||-18||-18||-34||-17||11
+| CD loss ||nm/edge||-5||-8||-18||-18||-34||-17||11
 |-
-| foot||nm/edge||-5||-8||-18||-18||-4||-10||7
+| CD loss foot||nm/edge||-5||-8||-18||-18||-4||-10||7
 |-
 | Bowing||||19||11||11||14||10||13||4
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-| Curve||||-48||-46||-43||-40||-40||-44||4
+| Curvature ||||-48||-46||-43||-40||-40||-44||4
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-| zep||nm/min||||||||||||95||
+| Zep etch rate||nm/min||||||||||||95||
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