Specific Process Knowledge/Thermal Process/Dope with Phosphorus: Difference between revisions
No edit summary |
No edit summary |
||
| Line 292: | Line 292: | ||
<br clear="all" /> | <br clear="all" /> | ||
====Phosphorous doping test after change of hardware==== | |||
Det er helt fint – Du må selvfølgelig gerne spørge til status på A4 ovnen. | |||
Der blev åbnet POCl-flasken i går, og i dag laver vi en doteringstest med en testskive i ovnen. Jeg unloader testskiven i eftermiddag og måler sheet resistance på den for at kunne sammenligne med tidligere resultater i LabAdviser: | |||
http://labadviser.nanolab.dtu.dk/index.php/Specific_Process_Knowledge/Thermal_Process/Dope_with_Phosphorus | |||
Det er denne proces, vi forsøger at gentage (se nederst på siden i LabAdviser): | |||
- RCA rens: Testskive (p-type, 1-20 Ωcm) + dummy-skiver | |||
- Forfor pre-dep i A4 ovnen: ”POCLNEW” (ny opskrift), 900°C, 15 min fosfor pre-dep + 20 min annealing | |||
- BHF dyp ved RCA-rensen: Fjern fosfor-glas fra testskiven | |||
- 4 Point Probe: Mål sheet resistance på testskiven | |||