Specific Process Knowledge/Etch/DRIE-Pegasus/DREM/DREM 3kW 100%
Date | Substrate Information | Process Information | Results | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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Wafer info | Material/ Exposed area | Condi- tioning | Recipe | Wafer ID | Comments | SEM images | Picoscope | Numbers | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
27/11-2019 | Medusa One AZ Mir | Si / 10% | stab-19 TDESC clean5, RF MU runs | nanolab/ vy / DREM / DREM 3kW 100% 120 cycles or 10:0 minutes | S018605 | Process log entry |
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