Specific Process Knowledge/Etch/DRIE-Pegasus/nanoetch: Difference between revisions
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! Duration | ! Duration | ||
| colspan="2" align="center"| | | colspan="2" align="center"| 60 cyc / 7:30 | ||
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| colspan="2" align="center"| | | colspan="2" align="center"| | ||
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! colspan="11" align="center"| Etch rates (nm/min) | ! colspan="11" align="center"| Etch rates (nm/min) | ||
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| Averages||.||.||.||.||.||.||.||.||. | | Averages||.||.||.||.||.||.||.||.||.| | ||
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! colspan="10" align="center"| Zep etch rate (nm/min) | ! colspan="10" align="center"| Zep etch rate (nm/min) | ||
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! colspan="10" align="center"| Sidewall angle (degrees) | ! colspan="10" align="center"| Sidewall angle (degrees) | ||
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! colspan="10" align="center"| Bowing (nm) | ! colspan="10" align="center"| Bowing (nm) | ||
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! colspan="10" align="center"| Bottom curvature | ! colspan="10" align="center"| Bottom curvature | ||
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