Specific Process Knowledge/Lithography/Descum: Difference between revisions
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Revision as of 14:52, 19 November 2019
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Descum results
Plasma asher 1
Descum of AZ5214E resist on 50mm silicon wafer. Wafer was placed horisontally in chamber on a 100 mm carier wafer.
Note: Plasma asher was cold before use
Plasma asher 2
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