Specific Process Knowledge/Characterization: Difference between revisions
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| | | Breakdown voltage|||||||||||||||||||||||||||||||||||| | ||
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| Charge carrier life time||||||||||||||||||||||||||||x|||||||| | |||
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| Contact angle hydrophobic/hydrophillic||||||||||||||||||||||||||||||x|||||| | |||
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| | | Crystallinity||||||||||||||||||||||||||x||||||||x|| | ||
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| | | Deposition uniformity||||||||||x||x||x|||||||||||||||||||||| | ||
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| | | Electrical conductivity||||||||||||||||||||||||x|||||||||||| | ||
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| Element analysis||||x||||||||||||||x||x 4)||||||x 4)|||||||||| | | Element analysis||||x||||||||||||||x||x 4)||||||x 4)|||||||||| | ||
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| | | Film stress||||||||x||||||||||||||||||x|||||||||| | ||
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| Material Hardness||||||||||||||||||||||||||||||||x|||| | |||
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| | | Optical gap||||||||||||||x||||||x|||||||||||||||| | ||
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| | | Particles||x||x||x||||||||||||||||||||||||||||||x | ||
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| | | Phase changes||||||||||||||||||||||||||||||||||x|| | ||
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| Reflectivity||||||||||||x||x||||||x 6)|||||||||||||||| | | Reflectivity||||||||||||x||x||||||x 6)|||||||||||||||| | ||
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| Refractive index||||||||||||x||x|||||||||||||||||||||| | |||
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| Resistivity||||||||||||||||||||||x|||||||||||||| | | Resistivity||||||||||||||||||||||x|||||||||||||| | ||
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| | | Step coverage||x 1)||x 1)|||||||||||||||||||||||||||||||| | ||
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| | | Surface roughness||||||x||x||x|||||||||||||||||||||||||| | ||
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| | | Thermal conductivity|||||||||||||||||||||||||||||||||||| | ||
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|-style="background:#C0C0C0;" | |-style="background:#C0C0C0;" | ||
| | | Thin film thickness||x 1)||x 1)||x 2)||x 2)||x ||x||x||||||x 5)||x 3)||||x|||||||||| | ||
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|-style="background:#C0C0C0;" | |-style="background:#C0C0C0;" | ||
| Voids in wafer bonding||||||||||||||||||||x|||||||||||||||| | | Voids in wafer bonding||||||||||||||||||||x|||||||||||||||| | ||
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| | | Wafer thickness||x 1)||x 1)||||||||||||x|||||||||||||||||||| | ||
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