Specific Process Knowledge/Etch/DRIE-Pegasus/DREM/DREM 3kW 100% b: Difference between revisions
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Revision as of 10:28, 9 August 2022
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Wafer info | Material/ Exposed area | Condi- tioning | Recipe | Wafer ID | Comments | SEM images | Picoscope | Numbers | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
29/11-2019 | Medusa One | Si / 10% | stab-19 chamber clean 20 | nanolab/ jmli /DREM 3.0 kW 100% b | S018653 | Process log entry |
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